Navigation
Recherche
|
Semi-conducteurs : procédé Intel 18A, lithographie EUV High NA, tout est prêt mais n'est-il pas trop tard ?
mardi 25 février 2025, 10:30 , par Génération-NT
Tandis que TSMC semble accélérer ses projets sur la gravure en 2 nm, le groupe Intel ne veut pas perdre l'avantage du timing et affirme que son procédé Intel 18A est prêt. Il rappelle aussi qu'il dispose des équipements de lithographie les plus avancés.
https://www.generation-nt.com/actualites/intel-18a-procede-gravure-asml-lithographie-euv-equipement-...
Voir aussi |
56 sources (32 en français)
Date Actuelle
lun. 31 mars - 07:26 CEST
|